PHOTOKAT: Photokalytisch wirksame Dünnschichten (noa)

Ziel

Neue Funktionsschichten durch Plasmachemische Oxidation unter Funkenentladung auf PVD/CVD-beschichteten Substraten

Inhalt

Im Mittelpunkt steht die Erarbeitung einer komplexen, kombinierten Beschichtungstechnologie zur kostengünstigen Herstellung von fest- phasenfixierten, photokatalytischen Funktionsschichten.

Auf der Basis dieser Technologie und der damit verbundenen Erwei-terung der beschichtbaren Substrate sollen auch die klassischen Anwendungsfelder im thermal-technischen und optischen Bereich ein breiteres Anwendungsfeld finden:

Im Ergebnis und in Korrelation mit analytischen und anwendungs-technischen Untersuchungen sind dafür die technologischen Voraus-setzungen der Schichtherstellung, Schichtencharakterisierung sowie Prozessführung zu definieren, Applikationsmuster zu Testzwecken zur Verfügung zu stellen und eine Langzeitprüfung der Materialien vorzubereiten.

Partner

  Friedrich-Schiller-Universität Jena, Institut für Technische
 Chemie und Umweltchemie
  Technische Universität Bergakademie Freiberg,

 Institut für Metallkunde
 
Sura Instruments GmbH, Jena
 
OSTEC Oberflächen- und Schichttechnologie GmbH, Meißen
  TECHNO-COAT Oberflächentechnik GmbH, Zittau