HIPIMS (EU-Craft-1999-72116)

Ziel

Gepulstes Hochenergie-Magnetron-Sputtern

Inhalt

Durch gepulstes Hochenergie-Magnetron-Sputtern vor dem kon- ventionellen Magnetron-Sputtern soll eine exzellente Schichthaftung erzielt werden, die gegenüber dem sog. ABS-Verfahren (ARC-Bond-Sputtering) auchDropletfreiheit in der Übergangszone garantiert.

Partner

 → Lafer S.p.A. (Italy)
 → AC Sp. z.o.o. (Poland)
 → Aviko Praha s.r.o. (Czech Republic)
 → Clarkson GmbH (Germany)
 → R. Wilson & Co. Ltd. (UK)
 → Sheffield Hallam University (UK)
 → University of Birmingham (UK)
 → Linkoping University (Sweden)
 → TECHNO-COAT Oberflächentechnik GmbH (D)